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Optics And Laser Technology

光學(xué)和激光技術(shù)
國際簡稱：OPT LASER TECHNOL

Optics And Laser Technology

SCIE

按雜志級(jí)別劃分： 中科院1區(qū) 中科院2區(qū) 中科院3區(qū) 中科院4區(qū)

  • 2區(qū) 中科院分區(qū)
  • Q1 JCR分區(qū)
  • 1281 年發(fā)文量
  • 96.96% 研究類文章占比
  • 5.85% Gold OA文章占比
ISSN：0030-3992
創(chuàng)刊時(shí)間：1968
是否預(yù)警：否
E-ISSN：1879-2545
出版地區(qū)：ENGLAND
是否OA：未開放
出版語言：English
出版周期：Bimonthly
影響因子：4.6
出版商：Elsevier Ltd
審稿周期： 約2.1個(gè)月 約9周
CiteScore：8.3
H-index：63
出版國人文章占比：0.44
開源占比：0.0318
文章自引率：0.1

Optics And Laser Technology雜志簡介

Optics And Laser Technology是由Elsevier Ltd出版商主辦的物理與天體物理領(lǐng)域的專業(yè)學(xué)術(shù)期刊，自1968年創(chuàng)刊以來，一直以高質(zhì)量的內(nèi)容贏得業(yè)界的尊重。該期刊擁有正式的刊號(hào)（ISSN：0030-3992，E-ISSN：1879-2545），出版周期Bimonthly，其出版地區(qū)設(shè)在ENGLAND。該期刊的核心使命旨在推動(dòng)物理與天體物理專業(yè)及OPTICS學(xué)科界的教育研究與實(shí)踐經(jīng)驗(yàn)的交流，發(fā)表同行有創(chuàng)見的學(xué)術(shù)論文，提倡學(xué)術(shù)爭鳴，激發(fā)學(xué)術(shù)創(chuàng)新，開展國際間學(xué)術(shù)交流，為物理與天體物理領(lǐng)域的發(fā)展注入活力。

該期刊文章自引率0.1，開源內(nèi)容占比0.0318，出版撤稿占比0，OA被引用占比0.0115...，讀者群體主要包括物理與天體物理的專業(yè)人員，研究生、本科生以及物理與天體物理領(lǐng)域愛好者，這些讀者群體來自全球各地，具有廣泛的學(xué)術(shù)背景和興趣。Optics And Laser Technology已被國際權(quán)威學(xué)術(shù)數(shù)據(jù)庫“ SCIE（Science Citation Index Expanded） ”收錄，方便全球范圍內(nèi)的學(xué)者和研究人員檢索和引用，有助于推動(dòng)OPTICS領(lǐng)域的研究進(jìn)展和創(chuàng)新發(fā)展。

CiteScore（2024年最新版）

  • CiteScore：8.3
  • SJR：0.874
  • SNIP：1.577
學(xué)科類別 分區(qū) 排名 百分位
大類：Engineering 小類：Electrical and Electronic Engineering Q1 102 / 738

86%
大類：Engineering 小類：Electronic, Optical and Magnetic Materials Q1 45 / 271

83%
大類：Engineering 小類：Atomic and Molecular Physics, and Optics Q1 36 / 211

83%

CiteScore: 這一創(chuàng)新指標(biāo)力求提供更為全面且精確的期刊評(píng)估，打破了過去僅依賴單一指標(biāo)如影響因子的局限。它通過綜合廣泛的引用數(shù)據(jù)，跨越多個(gè)學(xué)科領(lǐng)域，從而確保了更高的透明度和開放性。作為Scopus中一系列期刊指標(biāo)的重要組成部分，包括SNIP（源文檔標(biāo)準(zhǔn)化影響）、SJR（SCImago雜志排名）、引用文檔計(jì)數(shù)以及引用百分比。Scopus整合以上指標(biāo)，幫助研究者深入了解超過22,220種論著的引用情況。您可在Scopus Joumal Metrics website了解各個(gè)指標(biāo)的詳細(xì)信息。

CiteScore分區(qū)值與影響因子值數(shù)據(jù)對(duì)比

Optics And Laser Technology中科院分區(qū)表

中科院分區(qū) 2023年12月升級(jí)版
大類學(xué)科 分區(qū) 小類學(xué)科 分區(qū) Top期刊 綜述期刊
物理與天體物理 2區(qū) OPTICS 光學(xué) PHYSICS, APPLIED 物理：應(yīng)用 2區(qū) 2區(qū) 是 否
中科院分區(qū) 2022年12月升級(jí)版
大類學(xué)科 分區(qū) 小類學(xué)科 分區(qū) Top期刊 綜述期刊
物理與天體物理 2區(qū) OPTICS 光學(xué) PHYSICS, APPLIED 物理：應(yīng)用 2區(qū) 2區(qū) 否 否
中科院分區(qū) 2021年12月舊的升級(jí)版
大類學(xué)科 分區(qū) 小類學(xué)科 分區(qū) Top期刊 綜述期刊
物理與天體物理 2區(qū) OPTICS 光學(xué) PHYSICS, APPLIED 物理：應(yīng)用 2區(qū) 2區(qū) 否 否
中科院分區(qū) 2021年12月基礎(chǔ)版
大類學(xué)科 分區(qū) 小類學(xué)科 分區(qū) Top期刊 綜述期刊
物理 2區(qū) OPTICS 光學(xué) PHYSICS, APPLIED 物理：應(yīng)用 2區(qū) 3區(qū) 否 否
中科院分區(qū) 2021年12月升級(jí)版
大類學(xué)科 分區(qū) 小類學(xué)科 分區(qū) Top期刊 綜述期刊
物理與天體物理 2區(qū) OPTICS 光學(xué) PHYSICS, APPLIED 物理：應(yīng)用 2區(qū) 2區(qū) 否 否
中科院分區(qū) 2020年12月舊的升級(jí)版
大類學(xué)科 分區(qū) 小類學(xué)科 分區(qū) Top期刊 綜述期刊
物理與天體物理 2區(qū) OPTICS 光學(xué) PHYSICS, APPLIED 物理：應(yīng)用 2區(qū) 2區(qū) 否 否
中科院分區(qū)表歷年分布趨勢圖

WOS期刊JCR分區(qū)（2023-2024年最新版）

按JIF指標(biāo)學(xué)科分區(qū) 收錄子集 分區(qū) 排名 百分位
學(xué)科：OPTICS SCIE Q1 21 / 119

82.8%
學(xué)科：PHYSICS, APPLIED SCIE Q2 45 / 179

75.1%
按JCI指標(biāo)學(xué)科分區(qū) 收錄子集 分區(qū) 排名 百分位
學(xué)科：OPTICS SCIE Q1 20 / 120

83.75%
學(xué)科：PHYSICS, APPLIED SCIE Q1 29 / 179

84.08%

JCR（Journal Citation Reports）分區(qū)，也被稱為JCR期刊分區(qū)，是由湯森路透公司（現(xiàn)在屬于科睿唯安公司）制定的一種國際通用和公認(rèn)的期刊分區(qū)標(biāo)準(zhǔn)。JCR分區(qū)基于SCI數(shù)據(jù)庫，按照期刊的影響因子進(jìn)行排序，按照類似等分的方式將期刊劃分為四個(gè)區(qū)：Q1、Q2、Q3和Q4。需要注意的是，JCR分區(qū)的標(biāo)準(zhǔn)與中科院JCR期刊分區(qū)（又稱分區(qū)表、分區(qū)數(shù)據(jù)）存在不同之處。例如，兩者的分區(qū)數(shù)量不同，JCR分為四個(gè)區(qū)，而中科院分區(qū)則分為176個(gè)學(xué)科，每個(gè)學(xué)科又按照影響因子高低分為四個(gè)區(qū)。此外，兩者的影響因子取值范圍也存在差異。

歷年發(fā)文數(shù)據(jù)

年份 年發(fā)文量
2014 313
2015 293
2016 294
2017 386
2018 583
2019 736
2020 631
2021 1022
2022 1143
2023 1281

期刊互引關(guān)系

被他刊引用情況
期刊名稱 引用次數(shù)
OPT LASER TECHNOL 891
OPTIK 410
OPT EXPRESS 222
MATER RES EXPRESS 220
APPL OPTICS 188
INT J ADV MANUF TECH 179
MATERIALS 156
SENSORS-BASEL 155
OPT COMMUN 153
IEEE ACCESS 140
引用他刊情況
期刊名稱 引用次數(shù)
OPT EXPRESS 1140
OPT LASER TECHNOL 891
OPT LETT 791
APPL OPTICS 546
APPL PHYS LETT 444
OPT COMMUN 424
APPL SURF SCI 403
J MATER PROCESS TECH 372
MAT SCI ENG A-STRUCT 341
MATER DESIGN 324
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