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Journal Of Micro-nanolithography Mems And Moems

微納光刻技術(shù)雜志
國(guó)際簡(jiǎn)稱：J MICRO-NANOLITH MEM

Journal Of Micro-nanolithography Mems And Moems

SCIE

按雜志級(jí)別劃分： 中科院1區(qū) 中科院2區(qū) 中科院3區(qū) 中科院4區(qū)

  • 2區(qū) 中科院分區(qū)
  • Q3 JCR分區(qū)
  • 0 年發(fā)文量
  • 0.00% 研究類文章占比
  • 7.69% Gold OA文章占比
ISSN：1932-5150
創(chuàng)刊時(shí)間：2007
是否預(yù)警：否
E-ISSN：1932-5134
出版地區(qū)：UNITED STATES
是否OA：未開放
出版語言：English
出版周期：Quarterly
出版商：SPIE
審稿周期： 較慢,6-12周
CiteScore：3.4
H-index：37
開源占比：0.0769

Journal Of Micro-nanolithography Mems And Moems雜志簡(jiǎn)介

Journal Of Micro-nanolithography Mems And Moems是由SPIE出版商主辦的物理與天體物理領(lǐng)域的專業(yè)學(xué)術(shù)期刊，自2007年創(chuàng)刊以來，一直以高質(zhì)量的內(nèi)容贏得業(yè)界的尊重。該期刊擁有正式的刊號(hào)（ISSN：1932-5150，E-ISSN：1932-5134），出版周期Quarterly，其出版地區(qū)設(shè)在UNITED STATES。該期刊的核心使命旨在推動(dòng)物理與天體物理專業(yè)及ENGINEERING, ELECTRICAL & ELECTRONIC學(xué)科界的教育研究與實(shí)踐經(jīng)驗(yàn)的交流，發(fā)表同行有創(chuàng)見的學(xué)術(shù)論文，提倡學(xué)術(shù)爭(zhēng)鳴，激發(fā)學(xué)術(shù)創(chuàng)新，開展國(guó)際間學(xué)術(shù)交流，為物理與天體物理領(lǐng)域的發(fā)展注入活力。

該期刊文章自引率0，開源內(nèi)容占比0.0769，出版撤稿占比，OA被引用占比，讀者群體主要包括物理與天體物理的專業(yè)人員，研究生、本科生以及物理與天體物理領(lǐng)域愛好者，這些讀者群體來自全球各地，具有廣泛的學(xué)術(shù)背景和興趣。Journal Of Micro-nanolithography Mems And Moems已被國(guó)際權(quán)威學(xué)術(shù)數(shù)據(jù)庫“ SCIE（Science Citation Index Expanded） ”收錄，方便全球范圍內(nèi)的學(xué)者和研究人員檢索和引用，有助于推動(dòng)ENGINEERING, ELECTRICAL & ELECTRONIC領(lǐng)域的研究進(jìn)展和創(chuàng)新發(fā)展。

CiteScore（2024年最新版）

  • CiteScore：3.4
  • SJR：0.393
  • SNIP：1.723
學(xué)科類別 分區(qū) 排名 百分位
大類：Engineering 小類：Mechanical Engineering Q2 299 / 672

55%
大類：Engineering 小類：Electrical and Electronic Engineering Q2 389 / 797

51%
大類：Engineering 小類：Atomic and Molecular Physics, and Optics Q3 113 / 224

49%
大類：Engineering 小類：Condensed Matter Physics Q3 223 / 434

48%
大類：Engineering 小類：Electronic, Optical and Magnetic Materials Q3 155 / 284

45%

CiteScore: 這一創(chuàng)新指標(biāo)力求提供更為全面且精確的期刊評(píng)估，打破了過去僅依賴單一指標(biāo)如影響因子的局限。它通過綜合廣泛的引用數(shù)據(jù)，跨越多個(gè)學(xué)科領(lǐng)域，從而確保了更高的透明度和開放性。作為Scopus中一系列期刊指標(biāo)的重要組成部分，包括SNIP（源文檔標(biāo)準(zhǔn)化影響）、SJR（SCImago雜志排名）、引用文檔計(jì)數(shù)以及引用百分比。Scopus整合以上指標(biāo)，幫助研究者深入了解超過22,220種論著的引用情況。您可在Scopus Joumal Metrics website了解各個(gè)指標(biāo)的詳細(xì)信息。

CiteScore分區(qū)值與影響因子值數(shù)據(jù)對(duì)比

Journal Of Micro-nanolithography Mems And Moems中科院分區(qū)表

中科院分區(qū) 2023年12月升級(jí)版
大類學(xué)科 分區(qū) 小類學(xué)科 分區(qū) Top期刊 綜述期刊
物理與天體物理 2區(qū) ENGINEERING, ELECTRICAL & ELECTRONIC 工程：電子與電氣 MATERIALS SCIENCE, MULTIDISCIPLINARY 材料科學(xué)：綜合 NANOSCIENCE & NANOTECHNOLOGY 納米科技 OPTICS 光學(xué) 3區(qū) 3區(qū) 3區(qū) 3區(qū) 否 否
中科院分區(qū) 2022年12月升級(jí)版
大類學(xué)科 分區(qū) 小類學(xué)科 分區(qū) Top期刊 綜述期刊
物理與天體物理 3區(qū) ENGINEERING, ELECTRICAL & ELECTRONIC 工程：電子與電氣 MATERIALS SCIENCE, MULTIDISCIPLINARY 材料科學(xué)：綜合 NANOSCIENCE & NANOTECHNOLOGY 納米科技 OPTICS 光學(xué) 4區(qū) 4區(qū) 4區(qū) 4區(qū) 否 否
中科院分區(qū) 2021年12月舊的升級(jí)版
大類學(xué)科 分區(qū) 小類學(xué)科 分區(qū) Top期刊 綜述期刊
工程技術(shù) 4區(qū) ENGINEERING, ELECTRICAL & ELECTRONIC 工程：電子與電氣 MATERIALS SCIENCE, MULTIDISCIPLINARY 材料科學(xué)：綜合 NANOSCIENCE & NANOTECHNOLOGY 納米科技 OPTICS 光學(xué) 4區(qū) 4區(qū) 4區(qū) 4區(qū) 否 否
中科院分區(qū) 2021年12月基礎(chǔ)版
大類學(xué)科 分區(qū) 小類學(xué)科 分區(qū) Top期刊 綜述期刊
工程技術(shù) 4區(qū) ENGINEERING, ELECTRICAL & ELECTRONIC 工程：電子與電氣 MATERIALS SCIENCE, MULTIDISCIPLINARY 材料科學(xué)：綜合 NANOSCIENCE & NANOTECHNOLOGY 納米科技 OPTICS 光學(xué) 4區(qū) 4區(qū) 4區(qū) 4區(qū) 否 否
中科院分區(qū) 2021年12月升級(jí)版
大類學(xué)科 分區(qū) 小類學(xué)科 分區(qū) Top期刊 綜述期刊
工程技術(shù) 4區(qū) ENGINEERING, ELECTRICAL & ELECTRONIC 工程：電子與電氣 MATERIALS SCIENCE, MULTIDISCIPLINARY 材料科學(xué)：綜合 NANOSCIENCE & NANOTECHNOLOGY 納米科技 OPTICS 光學(xué) 4區(qū) 4區(qū) 4區(qū) 4區(qū) 否 否
中科院分區(qū) 2020年12月舊的升級(jí)版
大類學(xué)科 分區(qū) 小類學(xué)科 分區(qū) Top期刊 綜述期刊
工程技術(shù) 3區(qū) ENGINEERING, ELECTRICAL & ELECTRONIC 工程：電子與電氣 MATERIALS SCIENCE, MULTIDISCIPLINARY 材料科學(xué)：綜合 NANOSCIENCE & NANOTECHNOLOGY 納米科技 OPTICS 光學(xué) 4區(qū) 4區(qū) 4區(qū) 4區(qū) 否 否
中科院分區(qū)表歷年分布趨勢(shì)圖

WOS期刊JCR分區(qū)（2023-2024年最新版）

按JIF指標(biāo)學(xué)科分區(qū) 收錄子集 分區(qū) 排名 百分位
學(xué)科：ENGINEERING, ELECTRICAL & ELECTRONIC SCIE Q3 187 / 275

32.2%
學(xué)科：MATERIALS SCIENCE, MULTIDISCIPLINARY SCIE Q3 255 / 342

25.6%
學(xué)科：NANOSCIENCE & NANOTECHNOLOGY SCIE Q4 91 / 107

15.4%
學(xué)科：OPTICS SCIE Q3 68 / 100

32.5%

JCR（Journal Citation Reports）分區(qū)，也被稱為JCR期刊分區(qū)，是由湯森路透公司（現(xiàn)在屬于科睿唯安公司）制定的一種國(guó)際通用和公認(rèn)的期刊分區(qū)標(biāo)準(zhǔn)。JCR分區(qū)基于SCI數(shù)據(jù)庫，按照期刊的影響因子進(jìn)行排序，按照類似等分的方式將期刊劃分為四個(gè)區(qū)：Q1、Q2、Q3和Q4。需要注意的是，JCR分區(qū)的標(biāo)準(zhǔn)與中科院JCR期刊分區(qū)（又稱分區(qū)表、分區(qū)數(shù)據(jù)）存在不同之處。例如，兩者的分區(qū)數(shù)量不同，JCR分為四個(gè)區(qū)，而中科院分區(qū)則分為176個(gè)學(xué)科，每個(gè)學(xué)科又按照影響因子高低分為四個(gè)區(qū)。此外，兩者的影響因子取值范圍也存在差異。

歷年發(fā)文數(shù)據(jù)

年份 年發(fā)文量
2014 120
2015 105
2016 95
2017 77
2018 68
2019 52
2020 26
2021 0
2022 0
2023 0
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