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Ieee Transactions On Semiconductor Manufacturing

半導(dǎo)體制造的IEEE交易
國際簡稱：IEEE T SEMICONDUCT M

Ieee Transactions On Semiconductor Manufacturing

SCIE

按雜志級別劃分： 中科院1區(qū) 中科院2區(qū) 中科院3區(qū) 中科院4區(qū)

  • 3區(qū) 中科院分區(qū)
  • Q2 JCR分區(qū)
  • 74 年發(fā)文量
  • 97.30% 研究類文章占比
  • 4.67% Gold OA文章占比
ISSN：0894-6507
創(chuàng)刊時間：1988
是否預(yù)警：否
E-ISSN：1558-2345
出版地區(qū)：UNITED STATES
是否OA：未開放
出版語言：English
出版周期：Quarterly
影響因子：2.3
出版商：Institute of Electrical and Electronics Engineers Inc.
審稿周期： 約6.0個月
CiteScore：5.2
H-index：59
出版國人文章占比：0.13
開源占比：0.106
文章自引率：0.1111...

Ieee Transactions On Semiconductor Manufacturing雜志簡介

Ieee Transactions On Semiconductor Manufacturing是由Institute of Electrical and Electronics Engineers Inc.出版商主辦的工程技術(shù)領(lǐng)域的專業(yè)學(xué)術(shù)期刊，自1988年創(chuàng)刊以來，一直以高質(zhì)量的內(nèi)容贏得業(yè)界的尊重。該期刊擁有正式的刊號（ISSN：0894-6507，E-ISSN：1558-2345），出版周期Quarterly，其出版地區(qū)設(shè)在UNITED STATES。該期刊的核心使命旨在推動工程技術(shù)專業(yè)及PHYSICS, APPLIED學(xué)科界的教育研究與實踐經(jīng)驗的交流，發(fā)表同行有創(chuàng)見的學(xué)術(shù)論文，提倡學(xué)術(shù)爭鳴，激發(fā)學(xué)術(shù)創(chuàng)新，開展國際間學(xué)術(shù)交流，為工程技術(shù)領(lǐng)域的發(fā)展注入活力。

該期刊文章自引率0.1111...，開源內(nèi)容占比0.106，出版撤稿占比0，OA被引用占比0，讀者群體主要包括工程技術(shù)的專業(yè)人員，研究生、本科生以及工程技術(shù)領(lǐng)域愛好者，這些讀者群體來自全球各地，具有廣泛的學(xué)術(shù)背景和興趣。Ieee Transactions On Semiconductor Manufacturing已被國際權(quán)威學(xué)術(shù)數(shù)據(jù)庫“ SCIE（Science Citation Index Expanded） ”收錄，方便全球范圍內(nèi)的學(xué)者和研究人員檢索和引用，有助于推動PHYSICS, APPLIED領(lǐng)域的研究進(jìn)展和創(chuàng)新發(fā)展。

CiteScore（2024年最新版）

  • CiteScore：5.2
  • SJR：0.967
  • SNIP：1.237
學(xué)科類別 分區(qū) 排名 百分位
大類：Engineering 小類：Industrial and Manufacturing Engineering Q2 114 / 384

70%
大類：Engineering 小類：Condensed Matter Physics Q2 131 / 434

69%
大類：Engineering 小類：Electronic, Optical and Magnetic Materials Q2 89 / 284

68%
大類：Engineering 小類：Electrical and Electronic Engineering Q2 250 / 797

68%

CiteScore: 這一創(chuàng)新指標(biāo)力求提供更為全面且精確的期刊評估，打破了過去僅依賴單一指標(biāo)如影響因子的局限。它通過綜合廣泛的引用數(shù)據(jù)，跨越多個學(xué)科領(lǐng)域，從而確保了更高的透明度和開放性。作為Scopus中一系列期刊指標(biāo)的重要組成部分，包括SNIP（源文檔標(biāo)準(zhǔn)化影響）、SJR（SCImago雜志排名）、引用文檔計數(shù)以及引用百分比。Scopus整合以上指標(biāo)，幫助研究者深入了解超過22,220種論著的引用情況。您可在Scopus Joumal Metrics website了解各個指標(biāo)的詳細(xì)信息。

CiteScore分區(qū)值與影響因子值數(shù)據(jù)對比

Ieee Transactions On Semiconductor Manufacturing中科院分區(qū)表

中科院分區(qū) 2023年12月升級版
大類學(xué)科 分區(qū) 小類學(xué)科 分區(qū) Top期刊 綜述期刊
工程技術(shù) 3區(qū) PHYSICS, APPLIED 物理：應(yīng)用 PHYSICS, CONDENSED MATTER 物理：凝聚態(tài)物理 ENGINEERING, ELECTRICAL & ELECTRONIC 工程：電子與電氣 ENGINEERING, MANUFACTURING 工程：制造 3區(qū) 3區(qū) 4區(qū) 4區(qū) 否 否
中科院分區(qū) 2022年12月升級版
大類學(xué)科 分區(qū) 小類學(xué)科 分區(qū) Top期刊 綜述期刊
工程技術(shù) 4區(qū) PHYSICS, CONDENSED MATTER 物理：凝聚態(tài)物理 ENGINEERING, ELECTRICAL & ELECTRONIC 工程：電子與電氣 ENGINEERING, MANUFACTURING 工程：制造 PHYSICS, APPLIED 物理：應(yīng)用 3區(qū) 4區(qū) 4區(qū) 4區(qū) 否 否
中科院分區(qū) 2021年12月舊的升級版
大類學(xué)科 分區(qū) 小類學(xué)科 分區(qū) Top期刊 綜述期刊
工程技術(shù) 3區(qū) PHYSICS, CONDENSED MATTER 物理：凝聚態(tài)物理 ENGINEERING, ELECTRICAL & ELECTRONIC 工程：電子與電氣 ENGINEERING, MANUFACTURING 工程：制造 PHYSICS, APPLIED 物理：應(yīng)用 3區(qū) 4區(qū) 4區(qū) 4區(qū) 否 否
中科院分區(qū) 2021年12月基礎(chǔ)版
大類學(xué)科 分區(qū) 小類學(xué)科 分區(qū) Top期刊 綜述期刊
工程技術(shù) 4區(qū) ENGINEERING, ELECTRICAL & ELECTRONIC 工程：電子與電氣 ENGINEERING, MANUFACTURING 工程：制造 PHYSICS, APPLIED 物理：應(yīng)用 PHYSICS, CONDENSED MATTER 物理：凝聚態(tài)物理 4區(qū) 4區(qū) 4區(qū) 4區(qū) 否 否
中科院分區(qū) 2021年12月升級版
大類學(xué)科 分區(qū) 小類學(xué)科 分區(qū) Top期刊 綜述期刊
工程技術(shù) 3區(qū) PHYSICS, CONDENSED MATTER 物理：凝聚態(tài)物理 ENGINEERING, ELECTRICAL & ELECTRONIC 工程：電子與電氣 ENGINEERING, MANUFACTURING 工程：制造 PHYSICS, APPLIED 物理：應(yīng)用 3區(qū) 4區(qū) 4區(qū) 4區(qū) 否 否
中科院分區(qū) 2020年12月舊的升級版
大類學(xué)科 分區(qū) 小類學(xué)科 分區(qū) Top期刊 綜述期刊
工程技術(shù) 3區(qū) ENGINEERING, ELECTRICAL & ELECTRONIC 工程：電子與電氣 PHYSICS, APPLIED 物理：應(yīng)用 PHYSICS, CONDENSED MATTER 物理：凝聚態(tài)物理 ENGINEERING, MANUFACTURING 工程：制造 3區(qū) 3區(qū) 3區(qū) 4區(qū) 否 否
中科院分區(qū)表歷年分布趨勢圖

WOS期刊JCR分區(qū)（2023-2024年最新版）

按JIF指標(biāo)學(xué)科分區(qū) 收錄子集 分區(qū) 排名 百分位
學(xué)科：ENGINEERING, ELECTRICAL & ELECTRONIC SCIE Q2 175 / 352

50.4%
學(xué)科：ENGINEERING, MANUFACTURING SCIE Q3 41 / 68

40.4%
學(xué)科：PHYSICS, APPLIED SCIE Q3 100 / 179

44.4%
學(xué)科：PHYSICS, CONDENSED MATTER SCIE Q3 45 / 79

43.7%
按JCI指標(biāo)學(xué)科分區(qū) 收錄子集 分區(qū) 排名 百分位
學(xué)科：ENGINEERING, ELECTRICAL & ELECTRONIC SCIE Q3 183 / 354

48.45%
學(xué)科：ENGINEERING, MANUFACTURING SCIE Q3 35 / 68

49.26%
學(xué)科：PHYSICS, APPLIED SCIE Q3 92 / 179

48.88%
學(xué)科：PHYSICS, CONDENSED MATTER SCIE Q2 33 / 79

58.86%

JCR（Journal Citation Reports）分區(qū)，也被稱為JCR期刊分區(qū)，是由湯森路透公司（現(xiàn)在屬于科睿唯安公司）制定的一種國際通用和公認(rèn)的期刊分區(qū)標(biāo)準(zhǔn)。JCR分區(qū)基于SCI數(shù)據(jù)庫，按照期刊的影響因子進(jìn)行排序，按照類似等分的方式將期刊劃分為四個區(qū)：Q1、Q2、Q3和Q4。需要注意的是，JCR分區(qū)的標(biāo)準(zhǔn)與中科院JCR期刊分區(qū)（又稱分區(qū)表、分區(qū)數(shù)據(jù)）存在不同之處。例如，兩者的分區(qū)數(shù)量不同，JCR分為四個區(qū)，而中科院分區(qū)則分為176個學(xué)科，每個學(xué)科又按照影響因子高低分為四個區(qū)。此外，兩者的影響因子取值范圍也存在差異。

歷年發(fā)文數(shù)據(jù)

年份 年發(fā)文量
2014 60
2015 68
2016 51
2017 70
2018 63
2019 80
2020 77
2021 63
2022 77
2023 74

期刊互引關(guān)系

被他刊引用情況
期刊名稱 引用次數(shù)
IEEE T SEMICONDUCT M 182
IEEE T AUTOM SCI ENG 79
IEEE ACCESS 48
ECS J SOLID STATE SC 33
COMPUT IND ENG 24
INT J PROD RES 20
J MANUF SYST 17
COMPUT IND 16
IEEE T ELECTRON DEV 16
INT J ADV MANUF TECH 16
引用他刊情況
期刊名稱 引用次數(shù)
IEEE T SEMICONDUCT M 182
INT J PROD RES 33
EXPERT SYST APPL 30
IEEE T AUTOM SCI ENG 25
J APPL PHYS 19
JPN J APPL PHYS 18
APPL PHYS LETT 17
J ELECTROCHEM SOC 16
J MACH LEARN RES 16
CHEMOMETR INTELL LAB 15
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