您現(xiàn)在的位置：公務(wù)員期刊網(wǎng) SCI 期刊 Journal Of Physics D-applied Physics(非官網(wǎng))
Journal Of Physics D-applied Physics

應(yīng)用物理學(xué)雜志
國際簡稱：J PHYS D APPL PHYS

Journal Of Physics D-applied Physics

SCIE

按雜志級(jí)別劃分： 中科院1區(qū) 中科院2區(qū) 中科院3區(qū) 中科院4區(qū)

  • 3區(qū) 中科院分區(qū)
  • Q2 JCR分區(qū)
  • 730 年發(fā)文量
  • 96.30% 研究類文章占比
  • 12.04% Gold OA文章占比
ISSN：0022-3727
創(chuàng)刊時(shí)間：1970
是否預(yù)警：否
E-ISSN：1361-6463
出版地區(qū)：ENGLAND
是否OA：未開放
出版語言：English
出版周期：Weekly
影響因子：3.1
出版商：IOP Publishing Ltd.
審稿周期： 約1.9個(gè)月
CiteScore：6.8
H-index：172
出版國人文章占比：0.32
開源占比：0.0917
文章自引率：0.0882...

Journal Of Physics D-applied Physics雜志簡介

Journal Of Physics D-applied Physics是由IOP Publishing Ltd.出版商主辦的物理與天體物理領(lǐng)域的專業(yè)學(xué)術(shù)期刊，自1970年創(chuàng)刊以來，一直以高質(zhì)量的內(nèi)容贏得業(yè)界的尊重。該期刊擁有正式的刊號(hào)（ISSN：0022-3727，E-ISSN：1361-6463），出版周期Weekly，其出版地區(qū)設(shè)在ENGLAND。該期刊的核心使命旨在推動(dòng)物理與天體物理專業(yè)及PHYSICS, APPLIED學(xué)科界的教育研究與實(shí)踐經(jīng)驗(yàn)的交流，發(fā)表同行有創(chuàng)見的學(xué)術(shù)論文，提倡學(xué)術(shù)爭鳴，激發(fā)學(xué)術(shù)創(chuàng)新，開展國際間學(xué)術(shù)交流，為物理與天體物理領(lǐng)域的發(fā)展注入活力。

該期刊文章自引率0.0882...，開源內(nèi)容占比0.0917，出版撤稿占比0，OA被引用占比0.1061...，讀者群體主要包括物理與天體物理的專業(yè)人員，研究生、本科生以及物理與天體物理領(lǐng)域愛好者，這些讀者群體來自全球各地，具有廣泛的學(xué)術(shù)背景和興趣。Journal Of Physics D-applied Physics已被國際權(quán)威學(xué)術(shù)數(shù)據(jù)庫“ SCIE（Science Citation Index Expanded） ”收錄，方便全球范圍內(nèi)的學(xué)者和研究人員檢索和引用，有助于推動(dòng)PHYSICS, APPLIED領(lǐng)域的研究進(jìn)展和創(chuàng)新發(fā)展。

CiteScore（2024年最新版）

  • CiteScore：6.8
  • SJR：0.681
  • SNIP：0.916
學(xué)科類別 分區(qū) 排名 百分位
大類：Physics and Astronomy 小類：Acoustics and Ultrasonics Q1 8 / 44

82%
大類：Physics and Astronomy 小類：Condensed Matter Physics Q1 78 / 434

82%
大類：Physics and Astronomy 小類：Surfaces, Coatings and Films Q1 30 / 132

77%
大類：Physics and Astronomy 小類：Electronic, Optical and Magnetic Materials Q1 65 / 284

77%

CiteScore: 這一創(chuàng)新指標(biāo)力求提供更為全面且精確的期刊評估，打破了過去僅依賴單一指標(biāo)如影響因子的局限。它通過綜合廣泛的引用數(shù)據(jù)，跨越多個(gè)學(xué)科領(lǐng)域，從而確保了更高的透明度和開放性。作為Scopus中一系列期刊指標(biāo)的重要組成部分，包括SNIP（源文檔標(biāo)準(zhǔn)化影響）、SJR（SCImago雜志排名）、引用文檔計(jì)數(shù)以及引用百分比。Scopus整合以上指標(biāo)，幫助研究者深入了解超過22,220種論著的引用情況。您可在Scopus Joumal Metrics website了解各個(gè)指標(biāo)的詳細(xì)信息。

CiteScore分區(qū)值與影響因子值數(shù)據(jù)對比

Journal Of Physics D-applied Physics中科院分區(qū)表

中科院分區(qū) 2023年12月升級(jí)版
大類學(xué)科 分區(qū) 小類學(xué)科 分區(qū) Top期刊 綜述期刊
物理與天體物理 3區(qū) PHYSICS, APPLIED 物理：應(yīng)用 3區(qū) 否 否
中科院分區(qū) 2022年12月升級(jí)版
大類學(xué)科 分區(qū) 小類學(xué)科 分區(qū) Top期刊 綜述期刊
物理與天體物理 3區(qū) PHYSICS, APPLIED 物理：應(yīng)用 3區(qū) 否 否
中科院分區(qū) 2021年12月舊的升級(jí)版
大類學(xué)科 分區(qū) 小類學(xué)科 分區(qū) Top期刊 綜述期刊
物理與天體物理 3區(qū) PHYSICS, APPLIED 物理：應(yīng)用 3區(qū) 否 否
中科院分區(qū) 2021年12月基礎(chǔ)版
大類學(xué)科 分區(qū) 小類學(xué)科 分區(qū) Top期刊 綜述期刊
物理 3區(qū) PHYSICS, APPLIED 物理：應(yīng)用 3區(qū) 否 否
中科院分區(qū) 2021年12月升級(jí)版
大類學(xué)科 分區(qū) 小類學(xué)科 分區(qū) Top期刊 綜述期刊
物理與天體物理 3區(qū) PHYSICS, APPLIED 物理：應(yīng)用 3區(qū) 否 否
中科院分區(qū) 2020年12月舊的升級(jí)版
大類學(xué)科 分區(qū) 小類學(xué)科 分區(qū) Top期刊 綜述期刊
物理與天體物理 3區(qū) PHYSICS, APPLIED 物理：應(yīng)用 3區(qū) 否 否
中科院分區(qū)表歷年分布趨勢圖

WOS期刊JCR分區(qū)（2023-2024年最新版）

按JIF指標(biāo)學(xué)科分區(qū) 收錄子集 分區(qū) 排名 百分位
學(xué)科：PHYSICS, APPLIED SCIE Q2 63 / 179

65.1%
按JCI指標(biāo)學(xué)科分區(qū) 收錄子集 分區(qū) 排名 百分位
學(xué)科：PHYSICS, APPLIED SCIE Q2 69 / 179

61.73%

JCR（Journal Citation Reports）分區(qū)，也被稱為JCR期刊分區(qū)，是由湯森路透公司（現(xiàn)在屬于科睿唯安公司）制定的一種國際通用和公認(rèn)的期刊分區(qū)標(biāo)準(zhǔn)。JCR分區(qū)基于SCI數(shù)據(jù)庫，按照期刊的影響因子進(jìn)行排序，按照類似等分的方式將期刊劃分為四個(gè)區(qū)：Q1、Q2、Q3和Q4。需要注意的是，JCR分區(qū)的標(biāo)準(zhǔn)與中科院JCR期刊分區(qū)（又稱分區(qū)表、分區(qū)數(shù)據(jù)）存在不同之處。例如，兩者的分區(qū)數(shù)量不同，JCR分為四個(gè)區(qū)，而中科院分區(qū)則分為176個(gè)學(xué)科，每個(gè)學(xué)科又按照影響因子高低分為四個(gè)區(qū)。此外，兩者的影響因子取值范圍也存在差異。

歷年發(fā)文數(shù)據(jù)

年份 年發(fā)文量
2014 842
2015 839
2016 1107
2017 1253
2018 1109
2019 960
2020 1173
2021 1209
2022 1127
2023 730

期刊互引關(guān)系

被他刊引用情況
期刊名稱 引用次數(shù)
J PHYS D APPL PHYS 2388
others 1963
PLASMA SOURCES SCI T 1276
J APPL PHYS 1102
MATER RES EXPRESS 925
J MAGN MAGN MATER 792
IEEE T PLASMA SCI 759
J ALLOY COMPD 697
PHYS PLASMAS 665
PHYS REV B 633
引用他刊情況
期刊名稱 引用次數(shù)
J PHYS D APPL PHYS 2388
APPL PHYS LETT 2365
PHYS REV B 1983
others 1814
J APPL PHYS 1700
PHYS REV LETT 1316
NANO LETT 757
PLASMA SOURCES SCI T 745
SCI REP-UK 727
SCIENCE 661
若用戶需要出版服務(wù)，請聯(lián)系出版商：IOP PUBLISHING LTD, DIRAC HOUSE, TEMPLE BACK, BRISTOL, ENGLAND, BS1 6BE。